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ASML:最新光刻機可支援5nm製程工藝,很快進入中國市場

來源:內容來自「中證網 」,謝謝。

2018中國積體電路產業發展研討會暨第二十一屆中國積體電路製造年會9月13日-14日正在無錫召開。全球高階光刻機壟斷霸主ASML亞太區技術營銷協理鄭國偉介紹,2018年下半年ASML已開始出貨最先進的浸潤式光刻機NXT:2000i,符合積體電路製造5nm製程工藝需求。ASML中國區總裁沈波在接受採訪時表示,這臺ASML最先進的裝置也將很快在中國市場看到。

此前曾有訊息稱ASML受到限制沒有把最好的機器裝置銷售給中國,對此,沈波表示,上述說法並非事實。ASML的EUV、NXT:1980等高階裝置均已進入中國。目前ASML最新最先進的支撐7nm/5nm製程工藝的NXT:2000i也會很快在中國市場看到。

根據 中銀國際 機械團隊統計,2018年5月19日,長江儲存訂購的ASML193nm浸沒式光刻機運抵武漢;5月21日,華力二期(華虹六廠)訂購的193nm雙極沉浸式光刻機NXT:1980Di已經進場。 中芯國際 也已向ASML購買一臺EUV(極紫外線)光刻裝置,預計2019年交付。這些裝置價格十分高昂,單價在7000萬美元至1.2億美元。

據統計,2017年全球半導體光刻裝置廠中,ASML以80%以上的市佔率穩居龍頭,其次是日本廠商尼康(Nikon)和 佳能 (Canon),而在高階EUV光刻機臺方面,ASML幾乎100%壟斷供應。

“如果我們交不出EUV的話,摩爾定律就會從此停止”,ASML董事長Peter曾接受媒體採訪時說。摩爾定律演進對裝置廠商提出很大的技術研發挑戰,鉅額的研發投入已經不是一家公司能夠負擔。目前, 英特爾 、 臺積電 、 三星 等ASML所服務的積體電路製造客戶,已經成為ASML的股東,協助ASML研發。 摩根大通 最新報告表示,ASML已經確認1.5nm製程的發展性,可支撐摩爾定律延續至2030年。沈波指出,2018年ASML投入16億歐元研發,佔營收約15 %。

ASML總部位於荷蘭,脫胎於 飛利浦 光刻裝置研究組,1995年在納斯達克上市。

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責任編輯:

Reference:科技日報

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